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老虎說芯
老虎說芯
“老虎說芯”由北京大學微電子專業(yè)本碩,中國電源學會會員、在半導體行業(yè)有10多年經(jīng)驗的胡獨巍先生撰寫,為大家提供半導體行業(yè)關于材料、工藝、應用、市場、資訊等方面的內(nèi)容。在知乎有同名賬號。
版圖設計是一門技術,也是一門藝術
  • 更新日期: 2024-10-31
  • 瀏覽次數(shù): 808
我們可以將集成電路版圖設計比作城市規(guī)劃和建筑設計的結合。就像在有限的土地上規(guī)劃建筑和道路布局一樣,版圖設計需要在有限的芯片空間上安排晶體管、布線和各類元件,以實現(xiàn)功能和性能的最大化。 一、什么是版圖設計? 版圖設計是將電路的邏輯功能通過物理層次實現(xiàn)出來的過程。它類似于建筑圖紙的設計工作,需要通過EDA工具(……
如何在晶圓上生長二氧化硅(SiO2)
  • 更新日期: 2024-10-31
  • 瀏覽次數(shù): 1034
氧化工藝在CMOS集成電路制造中是一個非常重要的步驟,用于在硅片(Si wafer)表面生長二氧化硅(SiO2)。生長SiO2的過程可以類比為給硅片“穿上一層保護外衣”,這種外衣可以起到絕緣、防護和隔離等作用。 1. 準備基材(硅片) 首先,需要準備一塊高純度的硅片。這就像在一張空白的畫布上進行繪畫,硅片是……
閑聊低電壓模擬芯片設計技巧
  • 更新日期: 2024-10-31
  • 瀏覽次數(shù): 871
低電壓模擬電路設計技術的核心是要在盡可能低的電源電壓下,實現(xiàn)高效的模擬信號處理。這種設計思路主要受到移動設備、植入式醫(yī)療設備等應用場景的需求驅動。由于這些設備的空間和能量資源有限,工程師們需要找到能夠在低電壓(如3V以下)下高效工作的電路設計方法。 1. 技術選擇與工藝背景 低電壓設計首先受到半導體工藝的限……
EMMI在半導體器件失效分析的重要性
  • 更新日期: 2024-10-24
  • 瀏覽次數(shù): 781
失效分析的目的是通過技術手段找出器件失效的根本原因,并推動改進措施的實施,從而提升生產(chǎn)工藝、改善產(chǎn)品質量、提高良率和可靠性。EMMI是在失效分析過程中經(jīng)常使用的設備之一,它們能夠幫助分析人員檢測電氣故障,并定位失效的具體位置。 1. EMMI的基本原理 EMMI(Electro-Magnetic Induc……
CP測試和WAT測試的區(qū)別
  • 更新日期: 2024-10-23
  • 瀏覽次數(shù): 1086
在集電路的制造和測試過程中,CP測試(Chip Probing)和WAT測試(Wafer Acceptance Test)是兩個非常重要的測試環(huán)節(jié)。盡管它們都在晶圓(Wafer)階段進行,但二者的目的、測試對象、測試內(nèi)容和作用是有顯著不同的。 一、整體概述:CP測試和WAT測試 我們可以把集成電路的制造過程……
一文讀懂探針卡的概念、組成、分類以及應用
  • 更新日期: 2024-10-23
  • 瀏覽次數(shù): 791
探針卡(Probe Card)在集成電路測試中起著至關重要的作用,尤其在晶圓測試(wafer test)環(huán)節(jié),探針卡作為連接ATE測試機臺和半導體晶圓之間的接口,確保了在芯片封裝前對其電學性能進行初步測量和篩選。 1. 什么是探針卡? 探針卡可以形象地比作“醫(yī)生的聽診器”,幫助工程師“聽到”芯片的“心跳”?!?/div>
為什么研發(fā)EUV光刻機那么難?
  • 更新日期: 2024-10-23
  • 瀏覽次數(shù): 1055
雖然表面上看,光刻機是半導體制造的工具之一,但它的背后涉及復雜的多學科交叉與全球化合作。 1. 極端紫外光源的挑戰(zhàn):就像尋找“完美的燈泡” EUV光刻機依賴于波長僅為13.5納米的極端紫外線(EUV)光源,而這種光源的產(chǎn)生與控制是最大的技術挑戰(zhàn)之一。你可以把EUV光源想象成一個非常難以控制的“燈泡”,但這個……
SOC設計的核心思想、優(yōu)勢以及跟系統(tǒng)級封裝的對比
  • 更新日期: 2024-10-22
  • 瀏覽次數(shù): 634
SoC( on Chip)作為芯片設計的主流,已經(jīng)成為現(xiàn)代集成電路技術發(fā)展的核心。 1、SoC設計的核心思想 從結構上來看,SoC可以理解為把一個完整系統(tǒng)的所有功能電路都設計并集成在一個芯片中,形成一個高度集成的單元。傳統(tǒng)的電子系統(tǒng)設計通常是將不同的功能模塊分別制作成獨立的芯片,然后通過電路板上的連接將這些芯片集成到一個系統(tǒng)中。而SoC技術則直接將這些模塊在芯片制造時集成在一起,形成一個系統(tǒng)化的單芯片解決方案。 我們可以用“多合一工具”來形象化這個過程。傳統(tǒng)的電子設計就像是你在使
SOC跟SIP(系統(tǒng)級封裝)的區(qū)別在哪里?
  • 更新日期: 2024-10-22
  • 瀏覽次數(shù): 984
SoC(系統(tǒng)級芯片)與SiP(系統(tǒng)級封裝)兩種技術都是現(xiàn)代集成電路發(fā)展的重要里程碑,它們都能實現(xiàn)電子系統(tǒng)的小型化、高效化和集成化。 一、SoC(系統(tǒng)級芯片)和SiP(系統(tǒng)級封裝)的定義及基本思路 SoC(System on Chip)——將整個系統(tǒng)“擠”進一個芯片 SoC 就像一棟高樓,把所有的功能模塊都設計、集成到同一個物理芯片上。SoC的核心思想是將整個電子系統(tǒng)的核心部件,包括處理器(CPU)、存儲器、通信模塊、模擬電路、傳感器接口等多種不同功能模塊全部集成在一個芯片上。SoC的優(yōu)勢
晶圓工藝優(yōu)化或失效分析相關術語
  • 更新日期: 2024-10-15
  • 瀏覽次數(shù): 986
1. Defect “Defect”指的是在晶圓生產(chǎn)過程中出現(xiàn)的缺陷,可能是由于工藝不穩(wěn)定、設備問題或材料瑕疵導致的。這些缺陷可能包括顆粒污染、圖形失真、晶體結構破損等,都會影響最終產(chǎn)品的質量。 通俗解釋:就是生產(chǎn)過程中出現(xiàn)的“瑕疵”或“不良”,這些問題可能影響芯片的正常功能。 2. Fail ……
干法刻蝕的原理、工藝流程、評價參數(shù)及應用
  • 更新日期: 2024-10-15
  • 瀏覽次數(shù): 1069
RIE干法刻蝕技術憑借其優(yōu)越的各向異性刻蝕能力和良好的選擇比控制,已成為半導體制造中不可或缺的核心工藝。 一、RIE干法刻蝕技術的基本原理 RIE(Reactive Ion Etching,反應離子刻蝕)作為一種主流的干法刻蝕技術,通過等離子體中的活性物質對材料表面進行選擇性刻蝕,以達到精確移除材料的目的。 圖:干法刻蝕概要 RIE刻蝕技術屬于一種等離子體輔助的干法刻蝕工藝。刻蝕過程中,通過在反應腔內(nèi)引入刻蝕氣體并施加射頻電場,在電場作用下刻蝕氣體被電離和激發(fā),形成等離子體
如何理解晶圓制造中的Second Source
  • 更新日期: 2024-10-15
  • 瀏覽次數(shù): 866
在半導體制造和晶圓工藝設備維護中,"Second Source"(二次來源)指的是使用非原廠供應商生產(chǎn)的零件或耗材來替代原廠零件。這種策略有助于降低成本、減少對單一供應商的依賴,同時確保制造的持續(xù)性和靈活性。 1. 什么是Second Source? Second Source是指在生產(chǎn)制造過程中,為了降低……

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